下記の通り当社社員が 寄稿 しました。
発表者：中央研究所 / 先端技術開発室 半澤 将希
書籍名：月刊 エレクトロニクスステージ（2026年1月号）
タイトル：『レジスト剥離過程におけるin-situ時分割計測技術』
執筆内容：半導体製造における洗浄工程は、残渣物による歩留まり低下を防止するためにも極めて高い清浄度が要求される一方、強力な薬液や機械力は表面欠陥などのディフェクトを引き起こします。対象物への薬液の作用を時分割でモニタリングすることは、製剤設計・洗浄方式・時間設定の最適化検討に活用することができます。本記事では、フォトレジストを例に水晶振動子マイクロバランス法を中心とした剥離過程のin-situ時分割計測技術について紹介しました。