当社社員の執筆した研究論文が、アメリカ化学会（ACS）が発行する学術誌「Langmuir」に掲載されました。
「Langmuir」誌は、界面化学、コロイド科学、表面科学の分野におけるトップジャーナルの1つです。
また、本論文は内容の学術的優位性に加え、「視覚的なインパクト」や「その号のハイライトにふさわしい革新性」が編集部に認められ、同誌の「Supplementary Cover」にも採用されました。
論文の概要
発行日： 2026年5月26日
発表者： 中央研究所 / 先端技術開発室 半澤 将希
学術誌名： 「Langmuir」（アメリカ化学会）
タイトル： 『Removal Mechanism of Cutibacterium acnes Biofilms: A Comparison between Synthetic Surfactants and Rhamnolipid Biosurfactants』
内容：近年、合成界面活性剤およびバイオサーファクタントのバイオフィルムに対する洗浄性能は広く報告されていますが、その剥離メカニズムは未だ解明されていません。さらに、皮膚常在細菌によって形成されるバイオフィルムが炎症性皮膚疾患と密接に関連していることを示すエビデンスが増えています。本研究では、Cutibacterium acnesバイオフィルムをモデルとして、合成界面活性剤およびバイオサーファクタントによって引き起こされる洗浄挙動について、生物学的、物理化学的、化学工学的観点を基に執筆しました。
The cleaning performance of synthetic surfactants and biosurfactants against bacterial biofilms has been extensively reported in recent years; however, the underlying mechanistic pathways of detachment remain elusive. Furthermore, evidence has increasingly shown that biofilms formed by skin commensal bacteria are closely associated with inflammatory skin diseases. In this study, using Cutibacterium acnes biofilms as a model, we conducted a comparative investigation into the detachment behaviors induced by synthetic surfactants and biosurfactants from biological, physicochemical, and chemical engineering perspectives.